이재용 삼성전자 부회장이 지난 14일(현지시간) 네덜란드 에인트호번에 위치한 ASML 본사를 방문했다. 이재용 부회장은 피터 베닝크 ASML 최고경영자(CEO) 등 경영진과 만나 반도체 협력 강화 방안을 논의했다.

이 부회장과 ASML 경영진은 ▲미래 반도체 기술 트렌드 ▲반도체 시장 전망 ▲EUV 노광 장비 수급 방안 ▲중장기 사업 방향 등에 대해 폭넓게 협의했다.

이 부회장이 네덜란드 ASML 본사를 찾은 것은 2020년 10월 이후 20개월 만이다. 이번 회동에는 경계현 삼성전자 DS부문장이 배석했다.

ASML이 생산하는 극자외선(EUV) 노광장비는 말 그대로 EUV 노광 기술을 구현하는 장비다. 반도체의 원재료는 지름 30㎝의 실리콘 원판 ‘웨이퍼’로, 노광은 사진을 찍으면 필름에 상이 옮겨지듯이 웨이퍼에 자외선을 쏴 회로를 그리는 작업이다.

짧은 파장의 극자외선으로 세밀한 회로를 그릴 수 있는 EUV 노광 기술은 고성능 저전력 반도체를 만드는데 필수다.

삼성전자는 2019년 4월 업계 최초로 EUV 공정을 적용한 7나노 시스템온칩(SoC) 제품을 출하한 데 이어 같은해 하반기부터는 6나노 제품 양산을 시작했다. 

이번에 이재용 부회장과 피터 베닝크 CEO가 만난 것을 두고 재계는 시스템반도체 사업 강화를 위해 EUV 장비 확보에 직접 나선 것으로 관측한다.

삼성전자는 관계자는 “반도체 연구개발 및 투자 확대와 ASML과의 기술 협력 강화 등을 통해 EUV를 비롯한 차세대 반도체 생산 기술을 고도화시켜 파운드리 분야의 경쟁력을 키우고 메모리 반도체 분야의 ‘초격차’도 더욱 확대해 나갈 계획”이라고 했다.

한편 이재용 부회장은 15일(현지 시간)에는 벨기에 루벤(Leuven)에 위치한 유럽 최대 규모의 종합반도체 연구소 imec을 방문하기도 했다.

/지피코리아 김기홍 기자 gpkorea@gpkorea.com, 사진=삼성전자